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Subnano 轮廓仪Subnano 轮廓仪
&﹟8195;&﹟8195;NanoX-2000/3000系列、3D光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光垂直扫描干涉测量(CSI)等技术的基础上，以其纳米级测量准确度和重复性(稳定性)定量地反映出被测件的表面粗糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。


&﹟8195;&﹟8195;产品优势

&﹟8195;&﹟8195;美国硅谷研发的核心技术和系统软件

&﹟8195;&﹟8195;关键硬件采用美国、德国、日本等***品牌

&﹟8195;&﹟8195;PI纳米移动平台及控制系统

&﹟8195;&﹟8195;Nikon干涉物镜

&﹟8195;&﹟8195;NI信号控制板和Labview64 控制软件

&﹟8195;&﹟8195;TMC光学隔振台

&﹟8195;&﹟8195;测量准确度重复性达到世界先进水平(中国计量科学***证书)

产品参数：

n 测量模式 移相干涉（PSI），白光垂直扫描干涉（VSI），单色光垂直扫描干涉（CSI）

n 样 品 台 150mm/200mm/300mm样品台（可选配）

XY平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，倾斜：±5°

可选手动/电动样品台

n CCD相机像素 标配：1280×960

n 视场范围 560×750um（10×物镜）

具体视场范围取决于所配物镜及CCD相机

n 光学系统 同轴照明无限远干涉成像系统

n 光 源 高效LED

n Z方向聚焦 80mm手动聚焦（可选电动聚焦）

n Z方向扫描范围 精密PZT扫描(可选择高精密机械扫描，拓展达10mm )

n 纵向分辨率 ＜0.1nm

n RMS重复性* 0.005nm，1σ

n 台阶测量** 准确度 ≤0.75％；重复性 ≤0.1%，1σ

n 横向分辨率 ≥0.35um（100倍物镜）

n 检测速度 ≤ 35um/sec , 与所选的CCD和扫描模式有关